Slurry Reduction Nozzle
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  • 고가격의 Slurry를 30%이상 절감 가능한 Nozzle 장치.
  • 심플하고 컴팩트한 디자인으로 취부가 용이함.
  • 설비 개조(H/W, S/W)가 필요하지 않음.(Delivery Arm만 개조함)
 
  CMP 설비 내부
   
 
   
 
Item Description
Rate About 30%
Device Oxide(FN16 HC 10.5, ILD2 TEOS)
Dimension 840(W) x 705(D) x 1500(H) mm
YIELD Same level as before
R/R
(Remove Rate)
Using Circle Nozzle(1/4 inch) : 200 ml flow → 2,100Å/min
Using Multi Nozzle : 140 ml flow → 2,100Å/min
Nozzle auto flush
   
 
  설치전 설치 후 슬러리 고착화 방지
 
  기존 노즐
  기존 슬릿노즐의 경우 케미칼 토출 후 장시간 사용하지 않을 경우 출구가 좁아서 굳는 현상이 발생한다.
현재 사용중인 PR 코팅용 슬릿 노즐의 경우 슬릿홈이 좁고, PR 용매인 솔벤트가 쉽게 증발되어 노즐홈 내에서 굳음으로써
일정 시간 정체 시 코팅불량을 유발한다. 본 발명은 장시간 정체시 PR or CHEMICAL이 굳는 현상을 해소하기 위한 방안이다.
 
 
  위 도면과 같이 이중 구조의 슬릿 노즐을 사용하면서 코팅시 PR or Chemical을 우측 슬릿 노즐에서 토출 후 좌측 솔벤트 또는
용매제를 이용하여 노즐 토출부위를 세정할수 있어 장시간 사용하지 않을 경우 또는 오염이 심하게 발생하는 케미컬도 막침없이
사용할수 있다.
   
   
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